Europa stemmt sich gegen Washingtons Chip-Krieg

Die europäische Halbleiterindustrie positioniert sich zunehmend kritisch gegenüber weiteren Verschärfungen der US-Exportkontrollen gegenüber China. ASML-CEO Christophe Fouquet machte in einem Gespräch mit TechCrunch im Mai deutlich, dass China derzeit lediglich ältere Deep-Ultraviolet-(DUV)-Anlagen erwerben kann – Maschinen, die vor etwa einem Jahrzehnt erstmals ausgeliefert wurden.

Genau diese Generation von Lithografie-Systemen soll nun durch den geplanten MATCH Act der USA zusätzlich unter Restriktionen gestellt werden. Die Maßnahme würde damit auch jene Technologien betreffen, die bereits außerhalb der neuesten EUV-Generation liegen.

Die Haltung europäischer Akteure signalisiert wachsende Skepsis gegenüber einer einseitigen Verschärfung des technologischen Wettbewerbs, die auch europäische Exportinteressen und Lieferketten berührt.

Quelle: TechCrunch AI

FAQ

Was sind Deep-Ultraviolet-Tools?
Deep-Ultraviolet-(DUV)-Anlagen sind Lithografie-Systeme der vorherigen Generation, die vor der Einführung der extrem-ultravioletten (EUV) Technologie den Stand der Technik darstellten und vor etwa zehn Jahren erstmals in großem Umfang ausgeliefert wurden.

Was ist der MATCH Act?
Der MATCH Act ist eine geplante US-Gesetzesinitiative, die weitere Exportbeschränkungen für bestimmte Halbleiterfertigungsanlagen nach China vorsieht – darunter auch ältere DUV-Systeme, die bisher noch nicht vollständig von den strengsten Kontrollen erfasst waren.

Warum positioniert sich Europa kritisch?
Europa befürchtet wirtschaftliche Nachteile und eine weitere Fragmentierung globaler Lieferketten, da ASML als europäisches Unternehmen maßgeblich von einem ausgewogenen Exportregime abhängig ist.